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小型化CVD金刚石膜沉积设备控制系统研究

放大字体  缩小字体 发布日期:2019-06-19 16:08:12    浏览次数:590    评论:0
导读

引言从目前国内外的研究状况来看,在现有的技术水平下还难以实现金刚石膜制品的大批量,工业化制备。而且即使是小批量制备,还存在着生产周期长,制造成本较高等缺点。由于金刚石本身具有良好的物理和化学性质,在电

引言从目前国内外的研究状况来看,在现有的技术水平下还难以实现金刚石膜制品的大批量,工业化制备。而且即使是小批量制备,还存在着生产周期长,制造成本较高等缺点。由于金刚石本身具有良好的物理和化学性质,在电子、化工、机械领域对金刚石制品的需求也Ft渐迫切。国外目前正致力于研究Ic的金刚石散热系统、钛电极的金刚石表面处理以及硬质合金刀具涂层技术。业界领先的美国sp3公司则利用热丝CVD (hot filament CVD reactors)设备来开展这些热门应用?,并且在2006年与美国CPS公司结盟联合解决A1SiC 陶瓷在高温应用领域中存在的系列难题,以满足电子封装市场的巨大需求。因此,促进CVD金刚石膜制品发展应用的一条可借鉴的道路就是通过研发低功耗,小体积,性能稳定和具有较大沉积面积的热丝CVD设基金......
 
(文/小编)
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