二维码
中国金刚石网

扫一扫关注

当前位置: 首页 » 行业资讯 » 技术信息 » 正文

小型化CVD金刚石膜沉积设备控制系统研究

放大字体  缩小字体 发布日期:2019-06-19 16:08:12    浏览次数:585    评论:0
导读

引言从目前国内外的研究状况来看,在现有的技术水平下还难以实现金刚石膜制品的大批量,工业化制备。而且即使是小批量制备,还存在着生产周期长,制造成本较高等缺点。由于金刚石本身具有良好的物理和化学性质,在电

引言从目前国内外的研究状况来看,在现有的技术水平下还难以实现金刚石膜制品的大批量,工业化制备。而且即使是小批量制备,还存在着生产周期长,制造成本较高等缺点。由于金刚石本身具有良好的物理和化学性质,在电子、化工、机械领域对金刚石制品的需求也Ft渐迫切。国外目前正致力于研究Ic的金刚石散热系统、钛电极的金刚石表面处理以及硬质合金刀具涂层技术。业界领先的美国sp3公司则利用热丝CVD (hot filament CVD reactors)设备来开展这些热门应用?,并且在2006年与美国CPS公司结盟联合解决A1SiC 陶瓷在高温应用领域中存在的系列难题,以满足电子封装市场的巨大需求。因此,促进CVD金刚石膜制品发展应用的一条可借鉴的道路就是通过研发低功耗,小体积,性能稳定和具有较大沉积面积的热丝CVD设基金......
 
(文/小编)
免责声明
• 
本文为小编原创作品,作者: 小编。欢迎转载,转载请注明原文出处:http://xn--fiqp9gh5env5b790a.xn--czru2d/news/show.php?itemid=369 。本文仅代表作者个人观点,本站未对其内容进行核实,请读者仅做参考,如若文中涉及有违公德、触犯法律的内容,一经发现,立即删除,作者需自行承担相应责任。涉及到版权或其他问题,请及时联系我们123456@qq.com。
0相关评论
 

(c)2008-2019 中国金刚石网 All Rights Reserved

黑ICP备14018672号-1